產物簡介

電去離子（EDI）工藝采納一種離子選擇性膜和離子互換樹脂夾在直流電壓下兩個電極之間（陽極（+）和陰極（-）），在南北極間的直流電源電場從RO預處置過的水中去除離子。
離子選擇性膜同離子互換樹脂有著雷同的事情道理和原資料，他們用于將某種特定的離子停止分別。陰離子選擇性膜容許陰離子透過而不能透過陽離子，陽離子選擇性膜容許陽離子透過而不能透過陰離子，這兩種膜不容許水透過。經由進程在一個層狀、框架勢的組件中擱置分歧的陰離子選擇性膜和陽離子選擇性膜，就樹立了并列瓜代的咸水室和濃水室。離子選擇性膜被牢固在一個惰性的聚合體框架上，框架內裝填混雜樹脂就構成咸水室，咸水室之間的層就構成為了濃水室 。
EDI根本反復單位叫做“膜對”，見插圖1。模塊的膜對擱置在兩個電極之間，兩電極供給直流電場給模塊。在供給的直流電場推進下，離子經由進程膜從咸水室被運送到濃水室。是以，當水經由進程咸水室活動時，慢慢到達無離子狀況，這股水流便是產物水流。濃水回流回收率可到達99%。




二、EDI超純水裝備感化及道理

水源的水中含有鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽、二氧化硅等消融鹽。這些鹽由帶負電的離子（anion）和帶正電的離子（cation）構成。98%以上的離子都可以或許經由進程反滲入滲出（RO）處置得以去除。水源還含有有機物、消融氣體（如：O2，、CO2）、微量金屬和別的微電離的有機化合物，這些雜質在產業(yè)利用進程傍邊必需去除（如硼和硅）。RO系統(tǒng)和其預處置也可以或許去除很多這些雜質。
RO產水（EDI進水）的電導率抱負規(guī)模一樣平常在4-20μS/cm，而依據(jù)利用范疇的分歧，超純水或去離子水的電阻率一樣平常在2-18.2MΩ.cm之間。EDI工藝從水中去除不想要的離子，依靠在咸水室的樹脂吸附離子，而后將它們遷徙到濃水室中。平日，EDI進水離子越少，其產物水品德越高。

流入EDI模塊的RO水被分成為了三股自力的水流：
1. 產水水流（高達99%的水回收率）
2. 濃水水流（一樣平常為5~10%，可以或許輪回回流到RO進水）
3. 極水水流（0.5~1%，陽極+陰極同一排放）
濃水室和產水室（純化）在由變更的陰離子和陽離子滲入滲出膜構成的蜂窩式的客棧中構成單絲屏幕空格。這些構成為了兩個截然分歧的、變更的流體腔體。嵌入高聚資料框架的離子選擇性膜和裝滿離子互換樹脂構成純化室。
第3股水流（極水）持續(xù)賡續(xù)地流過陽極和陰極，陽極液起首流入陽極室，陽極室是位于陽極和臨近的陰離子選擇性膜之間，在該室PH值降低，產生Cl2和O2。極水流而后流入陰極室，陰極室是位于陰極（-）和一個臨近的陽離子選
擇性膜之間。在陰極室，產生H2（氫氣），是以，極水室排擠不想要的氧氣和氫氣。
離子互換反響在模塊的咸水室中停止，在那里陰離子互換樹脂釋放出氫氧根離子（OH-）而從消融鹽（如氯化物、Cl-）中互換陰離子。異樣，陽離子互換樹脂釋放出氫離子（H+）而從消融鹽中(如鈉、Na+)互換陽離子。
從水流中去除離子的吸附步調，在模塊中的停頓是無限的（類似10~15秒）。當被吸附時，離子僅僅被外在的直流電場驅動遷徙。
一個直流（DC）電場經由進程擱置在組件一端的陽極（+）和陰極（-）完成。電壓驅動這些被接收的離子沿著樹脂球的外面挪動，而后穿過離子選擇性膜進入濃水室。直流電場也裂解水份子構成氫氧根離子和氫離子：
H2O=OH-+H+
這些離子選擇性膜不容許水穿過，以是他們對水流來講是個屏蔽。帶負電的陰離子（如OH-、Cl-）被吸引到陽極（+）,而且被陰極排擠。這些離子穿過陰離子選擇性膜，進入相鄰的濃水室，而不會穿過相鄰的陽離子選擇性膜，并滯留在濃水室，并隨濃水流出濃水室。在咸水室中帶正電的陽離子（如H+、Na+）被吸引到陰極（-）,而且被陽極排擠。這些離子穿過陽離子選擇性膜進入臨近的濃水室，他們在那里被臨近的陰離子選擇性膜阻攔，并隨濃水流出濃水室。
在濃水室中，仍舊保持電中性。從兩個偏向運送過去的離子互相互相中和。從電源流過去的電流跟挪動離子的數(shù)量成比例。水裂解離子（H+和OH-）和現(xiàn)存的離子都被遷徙而且被加到所請求的電流傍邊。當水流流過兩種分歧類型的腔體時，咸水室中的離子就會完整被去除，同時被網絡到鄰近的濃水流傍邊，這就可以或許從模塊中帶走被去除了的離子。
在咸水室中還會產生一個緊張征象，在電勢梯度高的特定地區(qū)，電化學“分化”可以或許使水產生大批的H+和OH-離子。這些地區(qū)中產生的H+和OH-離子在混雜的離子互換樹脂中可以或許使樹脂和膜賡續(xù)再生，而且不必要外加化學試劑。


三、運轉進水特征：

如下是所可以或許感包管的***低運轉請求。準確值更多地靠近計劃目的，就可以獲得更抱負的EDI模塊機能。
v 水 源： 反滲入滲出RO產水，電導率1-20 μS/cm。***佳電導率在2-10 μS/cm。
v PH值： 5.0 to 9.5 (pH 7.0 至 8.0之間EDI有***佳電阻率機能，但硬度要低于慣例值)，注意到的低PH值進水時因為CO2的存在而招致產水品德降低。
v 溫 度： 5°C to 35°C. ***佳品德在25°C。
v 進水壓力： 0.15~0.5MPa (1.5~5 bar)，模塊壓力降取決于流量和溫度。
v 出水壓力： 濃水和極水出水壓力要比產水出水壓力低。
v 硬度(以CaCO3計)： ***大1.0 ppm在90%回收率時。
v 有機物： TOC ***大0.5 ppm，倡議檢測不出。
v 氧化劑： 活性氯(Cl2)***大 0.05 ppm，倡議檢測不出；臭氧(O3)***大0.02 ppm，倡議檢測不出。
v 金屬： ***大0.01 ppm Fe、Mn、變價性金屬離子
v 硅： ***大0.5 ppm. 反滲入滲出RO產水規(guī)模是50-150 ppb
v 總CO2： 倡議小于5 ppm. 10 ppm時，產水品德很大水平上依賴于CO2水溫和PH值
v 顆粒： 倡議用無顆粒的反滲入滲出RO產水（間接進入）或許將中央水箱的水采納1μm事后過濾。
EDI技巧與混雜離子互換技巧比擬有如下長處：
①水質穩(wěn)固
②輕易完成全自動控制
③不會因再生而停機
④不需化學再生
⑤運轉費用低
⑥廠房面積小
⑦無污水排放





四、EDI超純水裝備規(guī)格選型


型號 計劃出水量（T/h） 額外功率（kW） 出水水質（電阻率MΩ·cm） 額外電壓（V） 備注
YR-EDI-0.5T 0.5 2.0 15-18.2 380 YR：譽潤
EDI：電去離子技巧
1T：每小時的出水量
YR-EDI-1T 1 3.0 15-18.2 380
YR-EDI-2T 2 4.0 15-18.2 380
YR-EDI-3T 3 5.5 15-18.2 380
YR-EDI-4T 4 7.0 15-18.2 380
YR-EDI-5T 5 9.0 15-18.2 380
YR-EDI-8T 8 15.0 15-18.2 380
YR-EDI-10T 10 18.0 15-18.2 380
YR-EDI-15T 15 28.0 15-18.2 380





五、EDI超純水裝備利用范疇

EDI超純水裝備用于微電子和半導體臨盆，也用于生物醫(yī)學和實驗室研討，還用于藥品制作業(yè)，作為蒸餾的處置，發(fā)電進程傍邊的汽鍋水，食物和飲料業(yè)和必要用到去離子水的各類產業(yè)范疇。
1、取電子產業(yè)臨盆如單晶硅半導體集成電路塊、顯象管、玻殼、液晶顯示器等。

2、醫(yī)藥行業(yè)用水：制藥、制劑工藝用水，醫(yī)療血液透析、生化闡發(fā)、輸液等。

3、制取熱力、火力發(fā)電汽鍋，廠礦企業(yè)中、高壓汽鍋給水所需硬化水、除鹽純水。
4、制取電鍍工藝用去離子水、電池（蓄電池）臨盆工藝的純水，汽車、家用電器、建材產物外面涂裝、洗濯用純水。
5、鍍膜玻璃用純水，紡織印染工藝所需的除鹽水。
6、石油化工如化工反響冷卻、化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品制作進程用工藝純水。
7、用于防靜電行業(yè)的超純水制備。
8、無塵布用超純水

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